慣用的研磨分散技術其原理，不外乎是利用研磨介質間的剪切力(shear force)來研磨分散樣品，為求分散效率的提高，研磨球採用愈來愈小外徑的釔化安定的氧化鋯，市場上已經有0.03mm的鋯珠問世，這意味著為求研磨效率，不得不需要使用耗損率更高，平均單價更高的研磨介質來達成。研磨介質的存在，對於高潔淨度研磨樣品也是一大挑戰，研磨介質的互相研磨撞擊，以及研磨介質磨損研磨腔體內襯所造成的污染，是除了研磨機操作成本外，另一個令人頭痛的議題。
有趣的是兩種制程的樣品，在動態光散色儀(DLS)量測出的粒徑分佈與平均粒徑幾乎相同，但是通電點亮後，在光學顯微鏡下觀察每一個顯示畫素，很明顯可以看出濕式研磨法中，研磨介質產生的不純物影響了顯示器的諸多特性。這些影響雖然在其他用途如塗料或墨水產業，對成品特性影響不大，但對產品有高潔淨的要求如光電產業以及製藥產業不得不謹慎。
NanoLyzer使用的高壓噴射流對撞技術，完全不使用研磨球，單純的藉由高壓使物料自身產生高速，透過反應腔設計使物料噴射流本身互相對撞，其中的撞擊力(Impact)、剪切力(Shear force)、以及壓降氣穴(Cavitation)作用，使得物料有效率的均質分散，這樣的方法革命性的解決潔淨生產這難題，部分文獻將此一技術稱之為"無研磨球微粒化技術"。
